電子光學(xué)用超純水設備是什麽原理
電子光學一般指電子試(shì)劑、半導體、集成電路芯片加工、矽片清洗、光學透鏡、微電子工業、液晶顯示屏等加工。產品設備加工過程(chéng)中需要大量的工業(yè)純化水,如果工業純化水達不到標準,不僅會直接影響產品的使用,還會影響產品的壽命(mìng)。現在讓香蕉视频官网了(le)解一下電子光(guāng)學用超純水設備(bèi)?
不同電子行業對(duì)純水電阻率的要求不同,國內電子行業使用的純水分為四個等級:0.5MΩ/CM、12MΩ/CM、15MΩ/CM.和(hé)18MΩ/CM。
對於一些用於半導體、集成電路芯片、液晶屏清洗、電子試劑(jì)等的純水,如果要求純水的水質電阻(zǔ)率(lǜ)約為18.2兆歐,則超純水設備需要結合兩級反滲(shèn)透純化水處理技術+EDI模塊係統。
該設備可根據工廠(chǎng)每小時使用的純水量、現場安(ān)裝和工藝設計(jì)進行定製。在施工方提供的相(xiàng)關技術資料和技術要求中,無需添(tiān)加任何藥劑連續生產超純(chún)水,設備自動化程度高,操(cāo)作方便,產(chǎn)水量穩定。
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