新（xīn）興光電材料的生（shēng）產、加工和清潔；LCD顯示屏、PDP等離（lí）子顯示器、高品（pǐn）質（zhì）光管顯像管、微電子工業、線路板、集成電路、半導體等需要大量高純度水來清洗，半導體對水質（zhì）的要（yào）求很高，這對半導（dǎo）體超純水設（shè）備的簡單性、自動化、連續性和可持續性提出了更（gèng）嚴格的要求。

用於清（qīng）洗半導體產品的超純水設備采用雙級RO+EDI+混床超純水處理工藝，確（què）保處理後的超（chāo）純水出水水質電阻率達到（dào）18.2 5MΩ.cm，核心部件采（cǎi）用知名品牌，PLC+觸摸屏控製，整（zhěng）個係統自動化程（chéng）度高，係統穩定性高（gāo）。

半導體（tǐ）超純水設備（bèi）在半導體產品清洗中的應（yīng）用：

1、半（bàn）導體材料（liào）和晶體材料的（de）生產、加工和（hé）清潔

2、半導體材料、器件、印（yìn）刷電路板和集（jí）成（chéng）電路

3、電解電（diàn）容器生產中鋁箔和（hé）工作部件的清潔

4、顯像管和陰極射線管生產用純水和成分

5、集成電路生產中的高（gāo）純水清洗矽片

6、晶體管在生產（chǎn）中主（zhǔ）要用於清（qīng）潔矽（guī）片，少量用於液體藥物製備

7、電（diàn）子管生產、電子管陰極塗層碳（tàn）酸鹽溶液（yè）製（zhì）備

為了滿足（zú）用戶的需求，實現標（biāo）準水質，很大限度地減少各級汙染，延（yán）長半導體超純水設備的使用（yòng）壽命，減少操（cāo）作員的維護（hù）工作量，在材料選擇中，采用了國內外知名品牌，與其它同類產品（pǐn）相比較，具有更高的性價（jià）比和設備可靠性（xìng）。

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